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現(xiàn)代的砂磨機(jī)是以傳統(tǒng)的臥式滾動(dòng)球磨機(jī)或立式攪拌球磨機(jī)為基礎(chǔ)演變而來(lái)的,傳統(tǒng)的砂磨機(jī)問(wèn)世后,在物料處理量和*終粒徑分布均勻度上得到很大的提升,但同時(shí)也發(fā)現(xiàn)他的高耗能和噪音大的問(wèn)題。但是隨著時(shí)代的發(fā)展和科技的進(jìn)步,現(xiàn)代的砂磨機(jī)已經(jīng)有了很大的改善。也更節(jié)能,噪音更小。
砂磨機(jī)的工作離不開(kāi)研磨介質(zhì),研磨介質(zhì)的選擇可以說(shuō)很大程度決定了物料研磨粒徑的大小和粒徑分布狀態(tài)。在砂磨機(jī)中研磨介質(zhì)按照材料可以分玻璃珠,鋼珠,陶瓷珠(包括硅酸鋯珠,氧化鋯珠,二氧化鋁珠)等。因?yàn)椴煌闹樽悠洳馁|(zhì)不同所以其物理特性也不同,突出的就是硬度,耐磨性還有密度以及本身和研磨的物料之間的污染狀況。
類型 |
玻璃珠 |
硅酸鋯珠 |
氧化鋯(純) |
氧化鋁 |
鋼珠 |
比重 |
2.5 |
4.3 |
5.5 |
5.7 |
7.8 |
散重 |
1.5 |
2.5 |
3.2 |
3.4 |
4.0 |
比重(真比重)和散重(假比重)通常是密度在文件中的標(biāo)識(shí)。通常情況下,比重越大的研磨珠。沖量越大,研磨效率越高,而對(duì)砂磨機(jī)的接觸件(缸體,分散盤(pán)等)磨損也比較大,所以研磨的物料粘度和流量配合是關(guān)鍵。一般情況下,低密度的研磨珠適合粘度低的物料,高密度的漿料這是用高密度的研磨珠。
一般在砂磨機(jī)中的珠子粒徑的選擇是這樣的,(以分離方式)
1.靜態(tài)分離:D珠子=D篩網(wǎng)X1.5
2.動(dòng)態(tài)分離:D珠子=D篩網(wǎng)X3.0
若是從初始粒徑上來(lái)選擇珠子則是:
D珠=D粒徑X(20~40)
若是串聯(lián)的話*后一臺(tái)珠子粒徑選擇則是
D珠子越小則研磨細(xì)度越細(xì)。上海儒佳機(jī)電科技的砂磨機(jī)一般以1.5mm為切入點(diǎn)。根據(jù)客戶的具體要求來(lái)進(jìn)行工藝設(shè)計(jì)。
其實(shí)研磨珠子的大小決定了研磨珠和物料的接觸點(diǎn)的多少,粒徑小的珠子在同體積的料筒中接觸點(diǎn)就多,但只能說(shuō)是理論上研磨效率更高,比如如果初始物料在100微米的物料D=1MM的珠子就不可能適用,因?yàn)橹樽拥臎_量達(dá)不到將物料分散的能量,這時(shí)候就要選用大珠子,利用設(shè)備串聯(lián)的方式進(jìn)行遞減的方法來(lái)研磨,效果會(huì)更好。
研磨介質(zhì)的用量和物料的粘度,研磨物料的溫度有關(guān),因此在確定研磨介質(zhì)用量上面必須考慮到這些因素。一般原則是物料的粘度大,則研磨介質(zhì)的用量嶕峣少一點(diǎn),粘度小則可以填充量大一點(diǎn)。一臥式砂磨機(jī)為例,研磨介質(zhì)的英兩可以從筒體容積的80%開(kāi)始,然后再根據(jù)物料的出料溫度或者冷卻水的溫度來(lái)增減研磨介質(zhì)的用量,一般來(lái)說(shuō)當(dāng)溫度超過(guò)允許的范圍時(shí),就應(yīng)該減少研磨介質(zhì)用量。溫度低于允許范圍內(nèi)時(shí),在增加轉(zhuǎn)軸速度之前,可以優(yōu)先考慮拯增加研磨介質(zhì)的用量。研磨介質(zhì)填充率對(duì)砂磨機(jī)的研磨效率有著直接影響,研磨介質(zhì)填充率越大,研磨介質(zhì)接觸頻率就越大,分散研磨能力也增大,在相同研磨時(shí)間內(nèi)產(chǎn)品粒徑就越小。經(jīng)過(guò)反復(fù)試驗(yàn),填充率在80%~85%*為理想。當(dāng)填充率超過(guò)85%的時(shí)候會(huì)產(chǎn)生“珠磨珠”的現(xiàn)象,磨室內(nèi)的溫度迅速上升,磨損急劇增加。
下面說(shuō)一下在使用過(guò)程中研磨珠會(huì)出現(xiàn)的問(wèn)題。常見(jiàn)的估計(jì)就是碎珠的問(wèn)題了,就珠子本身而言,一方面是珠子的質(zhì)量原因,另一方面或者是此種材料的珠子強(qiáng)度不能勝用某種型號(hào)的砂磨機(jī)。
另外研磨珠在砂磨機(jī)的正常工作的情況下,已受到大約一公斤的壓力,相對(duì)的玻璃珠能承受約5000公斤力和硅酸鋯珠9000公斤而言,研磨珠在砂磨機(jī)中的受力是微不足道的,所以碎珠的原因集中在設(shè)備上和工藝上,而采取相應(yīng)的解決辦法。
*后說(shuō)一下研磨介質(zhì)的發(fā)展趨勢(shì):從第&一臺(tái)研磨設(shè)備使用較大的粒徑開(kāi)始研磨起,發(fā)展到現(xiàn)在使用研磨介質(zhì)粒徑較小的立式砂磨機(jī),臥式砂磨機(jī)以及超細(xì)研磨設(shè)備,所使用的研磨介質(zhì)粒徑越來(lái)越小。未來(lái)的發(fā)展也是對(duì)物料的超細(xì)化會(huì)越來(lái)越注重,因此粒徑的細(xì)度變小是一個(gè)發(fā)展的趨勢(shì)。
介質(zhì)粒徑 |
研磨產(chǎn)物粒徑 |
初始粒徑 |
物料粘度cps |
轉(zhuǎn)速m/sec |
0.05mm |
<0.05um |
<5um |
<50 |
>13 |
0.1mm |
<0.08um |
<10um |
<100 |
>12 |
0.2mm |
<0.1um |
<20um |
<200 |
>11 |
0.3~0.4mm |
<0.1um |
<20um |
<100 |
>10.5 |
0.4~0.6mm |
<1um |
<40um |
<1000 |
>10 |
0.7~0.9mm |
<2um |
<80um |
<2000 |
>9 |
0.9~1.1mm |
<10um |
<150um |
<5000 |
>8 |
1.75~2.5mm |
<20um |
<150um |
<100000 |
>6.5 |